小型真空甩带机 非晶微晶薄带制备装置

小型真空甩带机 非晶微晶薄带制备装置的设备原理

  SDM-0.02在高真空条件下将熔融态金属或合金喷射到高速旋转的铜辊上，令其快速冷却以得到薄带。由于这一冷却速度非常快，可以达到104K/秒-106K/秒数量级，从而能够在凝固时继续保持其液态的无序结构，抑制晶化，得到非晶态压稳材料。而通常熔化的金属或合金冷却到玻璃转变温度以下时，会发生形核和晶化，无法得到压稳材料。

小型真空甩带机 非晶微晶薄带制备装置的技术指标：

1. 样品熔炼量: 20g;

2.辊轮尺寸: φ 200mmx40;

3.铜棍速度: 0-3000r/min;

4.真空度:优于6. 67x10-3Pa;

5. 熔炼电源功率: 15KW;

6.熔炼坩埚: 石英;

7.条带宽度: 1-10mm;

8.真空腔尺寸: 300X 300X 480mm (L*W*H)

9.设备尺寸: 620*560*780m (L*W*H)

10. 标配:主机及感应熔炼电源

设备工程条件

1、设备总功率: 18Kw

2、总进线要求:三相，380V, 50Hz

3、设备总重量:^ 220Kg

4、设备占地面积: 1000*600*700mm (长*宽*高）

典型应用：熔态单辊旋淬法制备条带非晶材料，以及真空喷铸法制备大块非晶材料。适用于大专院校、科研院所及企业进行新材料的科研