产品中心
当前位置:主页 > 产品中心 > > 真空挥发炉 >高温真空挥发炉

高温真空挥发炉

更新时间:2025-01-07

厂商性质:生产厂家

浏览次数:163

简要描述:

高温真空挥发炉主要用于从 4N 到高纯硒的提纯制备,可将 4N 硒中的大多数元素通过真 空挥发除杂,使硒达到 5~6N 标准。

推荐产品
详细介绍
品牌盟庭仪器应用领域化工,石油,能源,冶金,综合

一、设备用途

本设备主要用于从 4N 到高纯硒的提纯制备,可将 4N 硒中的大多数元素通过真 空挥发除杂,使硒达到 5~6N 标准。


二、高温真空挥发炉主要技术参数

1、额定电压功率:三相,380V,50Hz,≤30Kw

2、坩埚容量:20kg (以硒比重计算)

3、坩埚温度:≥800℃

4、真空度:≤1x10-1Pa

5、坩埚材质:石英材质

6、极限真空度:<10Pa

7、主要组成部分:真空腔体、炉架、真空系统、熔炼装置、收集塔、炉盖升降装置、 底部升降装置


三、高温真空挥发炉设备优势

1、炉门采用侧部开门结构,方便进出料和安装拆卸熔炼坩埚

2、炉架由型钢和数控折板组装成炉架,用于支撑炉体,并做为操作平台,使操作更具人性化

3、真空炉内温度均匀且稳定,具有良好的热传递性能,确保材料在加热过程中受热均匀,减少热处理过程中的温度差异

4、在真空炉内可以排除氧气、水蒸气等有害气体,从而减少材料表面的氧化反应,保持材料的纯净度和性能

5、真空炉内部温度均匀且稳定,这得益于其先进的加热系统和温度控制系统。通过电阻加热或电磁感应加热方式,真空炉能够确保材料在加热过程中受热均匀,从而提高         热处理效果。

6、本设备具有良好的热传递性能,使得热量能够迅速且均匀地传递到材料内部,提高加热效率。




 


产品咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7

上一篇:VCC-10L真空精铸炉

下一篇:真空造粒机

Copyright©2025 上海盟庭仪器设备有限公司 沪ICP备15037643号-1 管理登陆 GoogleSitemap