品牌 | 盟庭仪器 | 应用领域 | 化工,石油,能源,冶金,综合 |
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一、设备用途
本设备主要用于从 4N 到高纯硒的提纯制备,可将 4N 硒中的大多数元素通过真 空挥发除杂,使硒达到 5~6N 标准。
二、高温真空挥发炉主要技术参数
1、额定电压功率:三相,380V,50Hz,≤30Kw
2、坩埚容量:20kg (以硒比重计算)
3、坩埚温度:≥800℃
4、真空度:≤1x10-1Pa
5、坩埚材质:石英材质
6、极限真空度:<10Pa
7、主要组成部分:真空腔体、炉架、真空系统、熔炼装置、收集塔、炉盖升降装置、 底部升降装置
三、高温真空挥发炉设备优势
1、炉门采用侧部开门结构,方便进出料和安装拆卸熔炼坩埚
2、炉架由型钢和数控折板组装成炉架,用于支撑炉体,并做为操作平台,使操作更具人性化
3、真空炉内温度均匀且稳定,具有良好的热传递性能,确保材料在加热过程中受热均匀,减少热处理过程中的温度差异
4、在真空炉内可以排除氧气、水蒸气等有害气体,从而减少材料表面的氧化反应,保持材料的纯净度和性能
5、真空炉内部温度均匀且稳定,这得益于其先进的加热系统和温度控制系统。通过电阻加热或电磁感应加热方式,真空炉能够确保材料在加热过程中受热均匀,从而提高 热处理效果。
6、本设备具有良好的热传递性能,使得热量能够迅速且均匀地传递到材料内部,提高加热效率。